单晶硅、多晶硅表面清洗配方

一般单晶硅、多晶硅表面清洗都是碱性的,对硅片无腐蚀,去除硅片表面的油脂和重金属离子(www.crzd.net)。可参考下面的配方:

TX-10 2%

喜赫FMES 2%

三乙醇胺油酸皂 2%

EDTA 4钠 0.1%

二乙二醇丁醚 3%

硅酸钠 1%

氢氧化钾 2%

水补足100%

该配方为硅片清洗剂,适合应用于光伏,电子等行业单晶与多晶硅片清洗;

由于硅片在生产、储存、运输过程中会被污染,会导致表面洁净度降低,对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大不利的影响,因此在进一步的加工之前,第一步要对硅片的表面进行充分的清洗操作。这个清洗的目的首先是去除表面的沾污,手印、灰尘等。然后溶解硅片表面的氧化膜,同时去除硅片表面附带的大小颗粒、金属粒子等,同时使硅片的表面得到钝化。

单晶硅、多晶硅表面清洗

公司名称:山东杰卓机械有限公司